RAITH- EBPG5200 高性能电子束曝光机EBPG5200

Description

专业电子束曝光系统

高性能电子束曝光机EBPG5200

自动化高速度的高精度电子束曝光技术

EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统,拥有完整200mm尺寸的光刻能力,这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案,包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所,以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。

 

 

同时,系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统,使用了相同的平台设计,是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。

Improved Specifications

  • Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
  • Extreme beam current up to 350 nA
  • Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

 

  • 高束流密度,热场发射电子枪可以在2050100kV之间切换
  • 200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
  • 最小曝光特征尺寸小于8nm
  • 高速度曝光,可采用50100MHz的图形发生器
  • 在所有KVs加速电压下,可连续改变的写场大小,最大可以到1mm
  • GUI人机交互界面友好,简洁易用,适用于多用户环境
  • 多项灵活可选择的配置,可以适用于不同应用的需求

模块化的系统架构

模块化的系统架构设计,可以让用户根据需要选择配置,可以在将来技术升级的时候,保护用户的初始投资,提供不同类型的升级策略。

电子束曝光系统EBPG5200 应用

  • 圆光栅谐振腔

 

  • 6nm分辨率(100KVHSQ

 

  • 垂直谐振隧道晶体管
  • 化合物半导体应用

 

  • 5nm密集线条

电子束曝光系统EBPG5200 产品详情

主要应用:

  • 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
  • 高速电子束直写
  • 批量生产, 如化合物半导体器件
  • 防伪标识

电子光学柱技术:

  • EBPG
  • 电子束
  • 100 kV

样品台:

  • 覆盖完整8英寸硅片大小
  • Z轴垂直高度大范围可调(可选)
  • 10工位自动上料