4001500108 场发射扫描电镜FE-SEM

 场发射扫描电镜FE-SEM成像影响因素非常多，检测手段应与时俱进，该怎样选择一款成像优异的FE-SEM（场发射扫描电镜），几乎是每一个意向购买者需要纠结和权衡的问题。

      随着工业制造的高度精细化，其带动了显微分析技术在纳米材料时代的极速发展，SEM行业乘此东风，对材料显微结构的分辨能力进一步提升，以ZEISS 场发射扫描电镜FE-SEM观察SBA-15（介孔二氧化硅）为例，利用低电压的高分辨观察手段，可直接分辨出SBA-15的孔道（图1）和孔洞（图2）结构，像这种具有介孔尺寸（2-50nm）且非导电的材料，科研人员通常需要昂贵的TEM进行观察，但场发射扫描电镜FE-SEM凭借着高分辨性能的进化，正逐渐分流部分「只有TEM才能观察和分析」的材料过来。

　　看到这里，可能手机前的您会产生一丝疑惑，既然FE-SEM整个行业的成像能力已经非常牛了，那么是不是每个厂家的FE-SEM，使用起来都一样，至少成像效果没有什么区别？
 

诚然，场发射扫描电镜FE-SEM行业各厂家目前正面临着一个共同问题——同质化，下面我们看一个例子：图3展示了使用ZEISS FE-SEM和其他品牌FE-SEM观察的石墨烯负载钴的硫化物，从成像效果来看，两者的区别很小，信噪比都比较理想，图像质量都很高。
 

　　这两张图片的对比，一定程度上映衬了FE-SEM行业同质化的现况，即成像效果区别不大，但是，我们需要弄清楚的是，这种同质化是有相应前提的，也就是说，在样品对FE-SEM成像能力要求不高的时候，例如材料产生的荷电不严重或者没有荷电、放大倍率不高，各类FE-SEM的成像效果必然会比较接近。