专业电子束曝光系统

高性能电子束曝光机EBPG5200

自动化高速度的高精度电子束曝光技术

EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案，包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所，以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。

同时，系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统，使用了相同的平台设计，是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。

Improved Specifications

• Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
• Extreme beam current up to 350 nA
• Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

• 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
• 200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
• 最小曝光特征尺寸小于8nm
• 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
• 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mm
• GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
• 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

模块化的系统架构

模块化的系统架构设计，可以让用户根据需要选择配置，可以在将来技术升级的时候，保护用户的初始投资，提供不同类型的升级策略。

电子束曝光系统EBPG5200 应用

• 圆光栅谐振腔

• 6nm分辨率（100KV，HSQ）

• 垂直谐振隧道晶体管
• 化合物半导体应用

• 5nm密集线条

电子束曝光系统EBPG5200 产品详情